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        Product

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        用于Nd:YAG激光的OD 6.0 多重陷波濾光片

        簡要描述:用于Nd:YAG激光的OD 6.0 多重陷波濾光片
        OD 6.0 深截止
        透射率超過90%
        透射范圍廣(325 – 1200nm)
        另有OD 4.0 陷波濾光片 和OD 6.0 陷波濾光片 可提供

        基礎信息

        產品型號

        廠商性質

        經銷商

        更新時間

        2026-01-06

        瀏覽次數

        931
        詳細介紹
        品牌Edmund Optics價格區間面議
        組件類別光學元件應用領域綜合

        用于Nd:YAG激光的OD 6.0 多重陷波濾光片

        OD 6.0 深截止

        透射率超過90%

        透射范圍廣(325 – 1200nm)

        另有OD 4.0 陷波濾光片 和OD 6.0 陷波濾光片 可提供


        通用規格

        光密度 OD(平均):
        ≥6.0
        涂層:
        Hard Coated
        表面質量:
        60-40
        厚度 (mm):
        3.50
        厚度容差 (mm):
        ±0.1
        透射率 (%) :
        >80 avg @ 325 - 400nm
        >90 avg @ 400 - 1200nm
        傳輸波長 (nm):
        325 - 1200
        構造 :
        Mounted in Black Anodized Ring
        有效孔徑 (%):
        >85
        耐用性:
        MIL-C-48497A
        CWL時的反射 (%) :
        >99.5
        傳輸波前,RMS:

        型號


        產品編碼Dia. (mm)CWL (nm)FWHM (nm)傳輸波長 (nm)
        87-01512.50 +0.00/-0.10355.00  & 53210.00  @ 355nm 25 @ 532nm325 - 1200 
        87-01712.50 +0.00/-0.10532.00  & 106425.00  @ 532nm 50 @ 1064nm325 - 1200 
        87-01925.00 +0.00/-0.10355.00  & 53210.00  @ 355nm 25 @ 532nm325 - 1200 
        87-02125.00 +0.00/-0.10532.00  & 106425.00  @ 532nm 50 @ 1064nm325 - 1200 
        87-02350.00 +0.00/-0.10355.00  & 53210.00  @ 355nm 25 @ 532nm325 - 1200 
        87-02550.00 +0.00/-0.10532.00  & 106425.00  @ 532nm 50 @ 1064nm325 - 1200 


        詳細資料

        TECHSPEC®用于Nd:YAG激光的OD 6.0 多重陷波濾光片適用于采用多重譜線以及多重Nd:YAG激光的一系列廣泛應用。TECHSPEC®用于Nd:YAG激光的OD 6.0 多重陷波濾光片可實現高透射率、廣泛的透射率范圍,以及指ding激光波長的OD 6.0 截止。常見應用包括醫療或美容激光系統、紋身去除、粒子圖像測速技術(PIV)、平面激光誘導熒光技術(PLIF)、LIDAR(光探測和測距),以及環境監控。

        技術數據

        image.png

        All mounted TECHSPEC® Optical Filters have an arrow on the side of the mount that points to the filter-coated surface for quick reference. Filter oriented such that arrow points to filter coated surface S1. Anti-reflective (AR) coating is applied to S2.





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