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| 品牌 | OTSUKA/日本大塚 | 應用領域 | 綜合 |
|---|
產品特色
● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統內
● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式
● 高精度、高再現性量測紫外到近紅外波段內的絕對反射率，可分析多層薄膜厚度、光學常數（n：折射率、k：消光系數）
● 單點對焦加量測在1秒內完成
● 顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外 ~ 近紅外）
● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求
● 最小對應spot約3μm
● 可針對超薄膜解析nk
量測項目
●絕對反射率分析
●多層膜解析（50層）
●光學常數（n：折射率、k：消光系數）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內部反射，即使是透明基板也可以實現高精度測量。此外，對具有光學異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨測量上面的膜。
（zhuanli編號 第 5172203 號）
應用范圍
● 半導體、復合半導體：硅半導體、碳化硅半導體、砷化鎵半導體、光刻膠、介電常數材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）
● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等
規格式樣
（自動XY平臺型）
| OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
|---|---|---|---|
| 波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
| 膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
| 測定時間 | 1秒 / 1點以內 | ||
| 光徑大小 | 10μm (最小約3μm) | ||
| 感光元件 | CCD | InGaAs | |
| 光源規格 | 氘燈+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
| 尺寸 | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分) | ||
| 重量 | 66kg（自動XY平臺型的主體部分） | ||
OPTM 選型
自動XY平臺型
固定框架型
嵌入頭型
波長與膜厚范圍
選型表
| 波長范圍 | 自動XY平臺型 | 固定框架型 | 嵌入頭型 |
| 230 ~ 800nm | OPTM-A1 | OPTM-F1 | OPTM-H1 |
| 360 ~ 1,100nm | OPTM-A2 | OPTM-F2 | OPTM-H2 |
| 900 ~ 1,600nm | OPTM-A3 | OPTM-F3 | OPTM-H3 |
物鏡
| 類型 | 倍率 | 測量光斑 | 視野范圍 |
| 反射對物型 | 10x lens | Φ 20μm | Φ 800μm |
| 20x lens | Φ 10μm | Φ 400μm | |
| 40x lens | Φ 5μm | Φ 200μm | |
| 可視折射型 | 5x lens | Φ 40μm | Φ 1,600μm |
量測案例
半導體行業 – SiO2、SiN膜厚測定案例
半導體工藝中，SiO2用作絕緣膜，而SiN用作比SiO2更高介電常數的絕緣膜，或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護，之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時，為了精確的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。
FPD行業 – 彩色光阻膜厚測定
彩色濾光片薄膜的制程中，一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面，通過光刻進行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。
彩色光阻的厚度不恒定是導致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因，因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。
FPD行業 – 用傾斜模式解析ITO構造
ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料，制膜后需經過退火處理(熱處理)提升導電性和透光性。此時，氧狀態和結晶性發生變化，使得膜厚產生階段性的傾斜變化。在光學上不能看作是構成均一的單層膜。
對這樣的ITO用傾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，對傾斜程度進行測量。
半導體行業 – 使用界面系數測定粗糙基板上的膜厚
如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射，測量光降低且測量的反射率低于實際值。
通過使用界面系數，因為考慮到了基板表面上的反射率的降低，可以測量出基板上薄膜的膜厚值。
DLC涂層行業 – 各種用途DLC涂層厚度的測量
DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征，被廣泛用于各種用途。
采用顯微光學系統，可以測量有形狀的樣品。此外，監視器一邊確認檢查測量位置一邊進行測量的方式，可以用于分析異常原因。
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